“劉悅，鄧建國打電話報喜，光學研究所研製成功1um製程工藝的光學係統，我明天上午坐飛機趕往京城祝賀，過幾天就回來。”

九日下午，孫健帶著家人正在遊覽毗鄰老城皇廟的豫園，突然接到鄧建國的報喜電話，非常高興，bsec離研製成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機又近了一步。

去年八月，bsec拿到了gca擁有的arf準分子激光<i>*</i>和800nm製程工藝的專利技術，院長兼光刻機光源研究所所長鄧國輝的團隊，一共76人，聚集了國內光刻機光源係統最強隊伍，光刻機光源研究所的實驗設備和材料也是世界最新的，通過拆卸gca牌arf準分子激光<i>*</i>，同專利技術和製造圖紙相互印證，經過三個月的研究和實踐，團隊消化吸收了arf準分子激光<i>*</i>的專利技術，今年六月，光刻機光源公

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